DX wpmaster 2025年12月8日 0 コメント

リコー、Google「Gemma 3 27B」ベースの日本語LLMを開発 – オンプレミス導入に最適な高性能モデル

株式会社リコーは、Googleが提供するオープンモデル「Gemma 3 27B」をベースに、オンプレミス環境への導入に最適な高性能な日本語大規模言語モデル（LLM）を開発しました。

独自技術で高性能を実現

このLLMは、リコー独自のモデルマージ技術を活用し、ベースモデルから大幅な性能向上を達成しています。モデルマージとは、複数の学習済みLLMモデルを組み合わせて、より高性能なモデルを作る新しい方法です。具体的には、約1万5千件の独自インストラクションチューニングデータで追加学習したInstructモデルから抽出したChat Vectorなど、複数のChat Vectorを開発し、「Gemma 3 27B」に独自の技術でマージしています。

「Gemma 3 27B」に関する詳細はこちらをご覧ください。
https://ai.google.dev/gemma/docs/core?hl=ja

最先端モデルと同等の性能と高い応答性

同規模のパラメータ数を持つLLMとのベンチマーク評価では、米OpenAIのオープンウェイトモデル「gpt-oss-20b」をはじめとする最先端の高性能モデルと同等の性能が確認されています。このモデルは、ユーザーが質問や指示を入力してから最初のテキストが生成されるまでの時間（初期応答性）が高い非推論モデルの特長を持ち、高い執筆能力も兼ね備えているため、ビジネスでの利用に適しています。

「gpt-oss-20b」に関する詳細はこちらをご覧ください。
https://openai.com/ja-JP/index/introducing-gpt-oss/

評価結果

複雑な指示やタスクを含む日本語ベンチマーク「ELYZA-tasks-100」と、日本語のマルチターン対話能力を評価する「Japanese MT-Bench」により性能を評価した結果、リコーが開発したLLMは高いスコアを示しました。

コンパクトながら省エネルギーで導入可能

モデルサイズは270億パラメータとコンパクトでありながら高性能を実現しており、PCサーバーなどで構築できるため、低コストでのプライベートLLM導入が可能です。LLMは高い電力消費による環境負荷が課題とされていますが、このコンパクトで高性能なLLMは省エネルギー化と環境負荷低減にも貢献します。

エフサステクノロジーズの基盤に搭載し提供

このLLMは、お客様の要望に応じて個別提供が可能です。さらに、2025年12月下旬からは、エフサステクノロジーズ株式会社が提供するオンプレミス環境向けの対話型生成AI基盤「Private AI Platform on PRIMERGY（Very Small モデル）」に、本LLMの量子化モデルと生成AI開発プラットフォーム「Dify（ディフィ）」がプリインストールされ、リコージャパン株式会社から提供されます。

お客様は、このLLMとDifyを活用することで、自社の業種や業務に合わせた生成AIアプリケーションなどをコードを書かずに作成できます。また、リコージャパンが提供する「Dify支援サービス」によるサポートも受けられるため、AIの専門人材がいない企業でも安心して生成AIの業務活用を始められます。

エフサステクノロジーズ株式会社の代表取締役社長CEOである保田益男氏は、リコーが開発した高性能LLMと「Private AI Platform on PRIMERGY」を組み合わせたオンプレミスAIソリューションを、リコーグループの販売網を通じて提供できることを歓迎しています。

株式会社リコーのAIサービス事業本部本部長である梅津良昭氏は、Googleの「Gemma 3 27B」を基にオンプレミス導入に最適な日本語LLMを開発し、エフサステクノロジーズによる迅速な製品化で「Private AI Platform on PRIMERGY」への搭載が実現したことに言及しています。3社の技術と強みが結集した本製品を通じて、多くの顧客の課題解決に貢献できると確信しているとのことです。

今後の展望とリコーのAI開発

リコーは今後、推論性能や業種に特化したモデルの開発を進めるとともに、画像認識と自然言語処理を組み合わせたマルチモーダル性能を強化し、LLMのラインアップをさらに充実させていく予定です。リコーは、お客様に寄り添い、業種業務に合わせて利用できるAIサービスの提供を通じて、オフィスや現場のデジタルトランスフォーメーション（DX）を支援していくとしています。

リコーのAI開発は1980年代に始まり、2015年からは画像認識技術を活かした深層学習AIの開発を進めてきました。2021年には自然言語処理技術を活用した「仕事のAI」の提供を開始。2022年からはLLMの研究・開発にもいち早く着手し、2023年3月には独自のLLMを発表しています。その後も、700億パラメータという大規模ながらオンプレミス環境でも導入可能な日英中3言語対応のLLMを開発するなど、多様なAI基盤開発を行っています。リコーは独自のモデルマージ技術などを活用し、お客様の用途や環境に最適な企業独自のプライベートLLMを低コスト・短納期で提供することを目指しています。

リコーのAI開発に関する詳細はこちらをご覧ください。
https://promo.digital.ricoh.com/ai/